其他挑战包括：微影蚀刻法（lithography and etching）中发光电阻器（LER）的栅极长度CD控制和抑制，对新栅极材料、非平面晶体管结构、光刻胶的发光电阻器以及深紫外光刻的测量。
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微影蚀刻法
Lithography etching method
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