【摘要】： 报道了在光照下具有高跨导值(高达64mS/mm)的1μm栅 Al_(0.15)Ga_(0.85)N/GaN 异质结构场效应晶体管(HFET),解释了光照下器件跨导和电流的增加是由于沟道中产生的俘获正电荷和导电电子造成的。
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异质结构场效应晶体管
Heterostructure field-effect transistor
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一种异质结构场效应晶体管(HFET)，可以包括由第一半导体材料制成的第一层(3)和由第二半导体材料制成的第二层(4)。
A hetero-structure field effect transistor (HFET), may include a first layer (3) made from a first semiconductor material and a second layer (4) made from a second semiconductor material.
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