道康宁推出XR-1541电子束光刻剂 - OFweek光学网 刻技术能使图形定义小至6nm。 XR-1541电子束光刻剂有各种高纯度、 半导体等级的配方，它是由甲基异丁基酮（methylisobutylketone, MIBK）带性溶剂中的含氢硅酸盐类（hydrogen silsesquioxane ,HSQ）树脂所构成。这些
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它是由甲基异丁基酮
It is composed of methyl isobutyl ketone
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