[3]反应离子腐蚀（RIE） 该方法为一种无掩膜腐蚀工艺，所形成的绒面反射率特别低，在450～1000微米光谱范围的反射率可小于2％。
基于6个网页-相关网页
·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动