...纵与测量的双束聚焦离子束系统（FIB）；以及面积3英寸、分辨率优于20纳米的纳米压印系统。 刻蚀设备：反应离子刻蚀机（RIE）；感应耦合等离子体刻蚀系统(ICP)；等离子去胶机(PS)； 生长设备：原子层沉积系统(ALD)；热蒸发(TE)；电子束蒸发(EB)；磁控溅...
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反应离子刻蚀机
Reactive ion etching machine
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