...，除了单个晶片的刻蚀过程是属于实时的调整控制，其他时间范围的刻蚀机状态变化都属于各个单个晶片刻蚀过程间（RtR，run-to-run）的控制。
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...过程（run），除了单个晶片的刻蚀过程是属于实时的调整控制，其他时间范围的刻蚀机状态变化都属于各个单个晶片刻蚀过程间（RtR，run-to-run）的控制。
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单个晶片刻蚀过程间
Between the etching processes of a single wafer
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