（b）空气柱型：通过干法刻蚀技术，如化学辅助离子束刻蚀（CAIBE）或反应离 子刻蚀（RIE），来获得数微米的柱形圆台面或方台面，然后将台面掩埋在其他介 质中来实现电流的限制。
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化学辅助离子束蚀刻 CAIBE
化学辅助离子束刻蚀
Chemical-assisted ion beam etching
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