Chemical Vapor Deposition
气相生长可以分为化学气相淀积法（Chemical Vapor Deposition，CVD）和物理气相淀积法（Physical Vapor Deposition，PVD）。
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气相生长可以分为化学气相淀积法（Chemical Vapor Deposition，CVD）和物理气相淀积法（Physical Vapor Deposition，PVD）。
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