①首先，利用电子束直写技术（EBDW）制造一片具备纳米图案的Si或SiO2模版，况且准备一片平均涂布热范性高分子光刻胶（一般以PMMA为主要材料）的硅基板。
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利用电子束直写技术
Utilizing electron beam direct writing technology
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