...分为两大类：通过调整原芯片掩膜版的图形边界形状来减小光刻图形的偏差的光学邻近修正方法（OPC，Optical Proximity Correction）[4-5]和通过对整个掩膜版图形设计区域进行全局优化的逆向光刻算法（ILT，Inverse Lith...
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...，人们提出了一系列的方法，主要分为两大类：通过调整原芯片掩膜版的图形边界形状来减小光刻图形的偏差的光学邻近修正方法（OPC，Optical Proximity Correction）[4-5]和通过对整个掩膜版图形设计区域进行全局优化的逆向光刻算法（ILT，Inverse Lith...
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