optical proximity correction
IBM认为，通过光学近似修正（Optical Proximity Correction，OPC）技术，硅基底和SOI模块均可采用248纳米步进机（Stepper），而不需使用较昂贵的193纳米微影...
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IBM认为，通过光学近似修正（Optical Proximity Correction，OPC）技术，硅基底和SOI模块均可采用248纳米步进机（Stepper），而不需使用较昂贵的193纳米微影...
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