...析 总揽 65nm工艺全局,Intel采用了以下新技术: ·在硅基底绝缘层方面,使用耗尽型衬底晶体管(depleted substrate transistor,DST) ·在晶体管底部氧化物薄层,使用改进型应变硅技术(The second generation St...
基于4个网页-相关网页
...揽 65nm工艺全局,Intel采用了以下新技术: ·在硅基底绝缘层方面,使用耗尽型衬底晶体管(depleted substrate transistor,DST) ·在晶体管底部氧化物薄层,使用改进型应变硅技术(The second generation St...
基于2个网页-相关网页
应用推荐