N2退火气氛对植入和低功率脉冲激光退火（LPPLA）的磷化铟基体的影响进行了讨论。进行分析，通过几个互补的技术，如RBS，拉曼光谱，SIMS和电气测量。
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低功率脉冲激光退火
Low-power pulsed laser annealing
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