晶圆代工大厂联电昨（22）日宣布与日本DRAM大厂尔必达（Elpida）策略联盟，双方将合作投入 低介电质 （ Low-K ）铜导线的动态随机存取内存（DRAM），及相位变化随机存取内存（PRAM）的技术开发。
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对低介电质 (low-k dielectric) 薄膜特性的影 editor for the English edition) , Taguchi Methods / Design of Experiments,
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低介电质铜导线 Cu-low-k interconnect
漏电的低电介质K Low-k dielectric
及低介电系数材质 Low-K CDO
低介电质
Low dielectric
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在引入电镀铜工艺的同时我们也不得不面对一些铜线工艺所特有的缺陷，如铜线和低K值介电质可靠性问题，以及电镀铜后产生的孔洞缺陷等问题。
We have to face some Cu line issues after we use Cu to replace AL, such as the reliability with Cu and low K dielectric, and post-CMP (Chemical Mechanical Polishing) Cu line voids defect.
youdao
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