...客户进行量产，该制程结合了193奈米浸润式曝光显影制程、应变矽晶(Silicon strains)以及超低介电系数(Extreme low-k dielectric，ELK)元件连接材料等优势。台积电计划先推出45奈米低耗电量(LP)制程.
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...户进行量产，该制程结合了193纳米浸润式曝光显影制程、应变硅晶(Siliconstrains)以及超低介电系数(Extremelow-kdielectric，ELK)组件连接材料等优势。台积电计划先推出45纳米低耗电量(LP)制程，之后再推出泛.
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