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介质化学气相沉积
Medium chemical vapor deposition
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探讨如何用电子回旋共振化学气相沉积(ECRCVD)设备制备非晶态氮化硅介质膜和光学膜。
This article is about how to use Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition (ECRCVD) method to prepare amorphous silicon nitride (SiN_x) film.
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