中国留学人员广州科技交流会 期限 1 年 项目内容: 原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），也称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），是由芬兰科学家Tuomo Suntola博士于1977年在赫尔辛基大学发明的一种薄膜制备方法。由于
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中国留学人员广州科技交流会 期限 1 年 项目内容: 原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），也称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），是由芬兰科学家Tuomo Suntola博士于1977年在赫尔辛基大学发明的一种薄膜制备方法。由于
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