中温化学气相沉积技术 中温化学气相沉积涂层（moderatetemperaturechemicalvapordeposition，MTCVD）技术的反应机理是以含C-N原子团的有机化合物如三甲基氨、甲基亚胺等为主要反应原料气体，与TiCl4、...
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中温化学气相沉积涂层
Medium-temperature chemical vapor deposition coating
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