防止产生光阻残渣的方法 图案层交互作用因此不会形成光阻残渣(scum)，从而防止了光阻残渣造成后续蚀刻轮廓(profile)不佳及图形临界尺寸(critical dimension，CD)改变等问题。其中，无氮类抗反射层为富含硅的氧化硅(SiOx)或含碳氢的富含硅之氧化硅(SiOxCy∶
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不佳及图形临界尺寸
Poor and graphic critical size
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