...：(1)「常压化学气相沈积（APCVD）；(2)「低压化学气相沈积（LPCVD）；(3)「电浆辅助化学气相沈积（PECVD） 物理气相沈积（PVD） 主要是一种物理制程而非化学制程。
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(五)物理气相沈积(PVD)制程 如其名称所示，物理气相沈积(Physical Vapor Deposition, PVD)是一种物理制程而非化 学制程。
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物理气相沈积系统 NEXUS PVDi
物理气相沈积法 physical vapor deposition ; PVD
物理气相沈积
Physical vapor phase deposition
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