本专利技术的技术方案如下：一种掺氮中空碳纳米材料的制备方法，是以ZnO纳米材料作为自牺牲模板，以三氨基三硝基苯(TATB)作为唯一碳源和氮源，利用化学气相沉积法制备，具体包括如下步骤：取TATB平铺于瓷舟底部，接着将平铺于瓷舟底部的TATB和ZnO纳米材...
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...rylamino)-3．5-dinitropyridine 二氨基三硝基苯 diamino-2，4，6-trinitrobenzene 三氨基三硝基苯 triamino trinitrobenzene ..
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