发现每离子蚀刻收率氟饱和的硅与二氧化硅表面的增加离子能量（Eion）的增加在扩展（Eion1/2-Eth1/2），其中的Eth是蚀刻过程中的阈值能量。
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然而，他立即赶 赴爱昂(Eion)，在那顽强地抵抗伯拉西达，为雅典 人保全了这座城邦。伯拉西达在他攻陷安菲波里 斯的第二天早上就扑向爱昂，进攻这座城邦。
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597 5 期 何 飞 等: 飞秒激光微加工: 激光精密加工领域的新前沿 图 4 所示为水的多光子吸收过程电离势 ( Eion) 为12. 6 eV, 在液相条件下这一阈值减小到6.
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