...波带片在短波长及大数值孔径情形下，外圈环带径向宽度接近且径向宽度在数十纳米，对现有微加工刻蚀工艺提出了苛刻的要求。上述问题是目前超细光针场调制面临的实际困难，特别是现有国内外报道尚未有一种可行的方法能够实现横向尺度接近百纳米量级的超细光针场聚焦。技术实现思路为了克服上述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种百纳米尺度超细光针场聚焦设计方法，基于微结构金属膜环带片，采用短波长激光照明，从深紫外(DUV)至极紫外(EUV)，具有成本低廉、系统结构简单、设计灵活方便的特点，可用于微纳光刻、纳米打印、超分辨显微成像、高密度光学存储等...
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