该方法在半导体的铜工艺中,于蚀刻铝焊垫(AlPad)时,设置多个空置图案(Dummy Patterns),以缩短铝焊垫的蚀刻时间。因此,可降低蚀刻的等离子体对元件的伤害,进而可延长元件的热载子注入的退化时间。
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dummy patterns
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