总部同样位于美国加州、在2005年成立的Tela Innovations,成立之初在运算微影(computational lithography)领域与高通(Qualcomm)合作,研发双重图形(double patterning)的多光罩技术;该公司为标准单元逻辑、嵌入式SRAM、类比与I/O功能区块...
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...16奈米以下的先进制程,所以在22奈米及其15奈米半制程(half-node),将计划暂时采用运算微影技术(Computational Lithography)。
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