论文研究了采用四靶闭合场非平衡磁控溅射(CFUBMS)技术获得Cr Ti Al N化合物涂层的偏压、溅射功率和气压等各种工艺参数和条件,以及采用S型弯管磁过滤阴极真空电弧沉积(FCVA)技术,获...
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合磁场磁控溅射(CFUBMS)，其特征为使用多个 按照一定方式安装的非平衡磁控溅射源，用于克服
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