CF4 plasma treatment CF4等离子体处理
The products of CF4 decomposition are analysed.
对CF 4分解的产物进行了分析。
Send a message using the Universal Test Client to destination jms/loggingQueue using connection factoryjms/CF4.
使用 Universal Test Client 将消息发送到使用连接 factoryjms/CF4 的目的地 jms/loggingQueue。
The optical emission spectrum of r. f. plasma during amorphous silicon based film etching in CF4 gas is detected.
用该系统检测了仅用CF4作为刻蚀气体刻蚀非晶硅基薄膜的等离子体光发射谱。
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