（b）空气柱型：通过干法刻蚀技术，如化学辅助离子束刻蚀（CAIBE）或反应离 子刻蚀（RIE），来获得数微米的柱形圆台面或方台面，然后将台面掩埋在其他介 质中来实现电流的限制。
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我们已经开发了一种双组分的化学辅助离子束蚀刻（CAIBE）高速多量子阱（MQW）的激光反射镜的干式蚀刻技术。这种双组分的过程中的干式蚀刻的含Al的光电器件的结构，仅与Cl2放松几个约束。
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...系统，除了可进行传统微纳结构刻蚀外，还可实现离子束清洗、材料表面抛光和材料减薄等功能，还可实现化学辅助离子束刻蚀（CAIBE）与反应离子束刻蚀（RIBE）。
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