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beam lithography

网络释义

  射束刻蚀法

... optical stepper lithography 步进式曝光蚀刻 beam lithography 射束刻蚀法 beamwriter lithography 电子束光刻 ...

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  电子束曝光

电子束曝光

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短语

electron beam lithography 电子束曝光 ; 电子束石版印刷术 ; 电子束微影

ion beam lithography 离子束刻蚀法 ; 离子束微影术 ; [电子] 离子束光刻 ; 离子束刻蚀

e-beam lithography 电子束微影 ; 电子束光刻 ; 电子束曝光系统 ; 电子束微影技术

scanning electron beam lithography 扫描式电子束刻蚀

vector scan electron beam lithography 矢量扫描电子束光刻

focused ion beam lithography 聚焦离子束光刻

direct write electron beam lithography 直写式电子束光刻

raster scan electron beam lithography 光栅扫描电子束光刻

E-Beam Lithography System 电子束微影系统 ; 电子束曝光机

 更多收起网络短语

有道翻译

beam lithography

电子束光刻技术

以上为机器翻译结果，长、整句建议使用 人工翻译 。

双语例句权威例句

  • The electron beam lithography and its improvement are introduced also.

    同时还介绍了电子束光刻技术及其改进。

    youdao

  • The proximity effect in the E-beam lithography system was verified by experiments.

    利用电子束曝光机完成有关邻近效应的实验。

    youdao

  • Electron - beam lithography with a novel multilevel resist structure defines the pattern.

    采用新型的多层抗蚀剂结构的电子束光刻来形成图形。

    youdao

更多双语例句

  • If this (topdown) manufacturing process is to be based on the most modern forms of deposition (including epitaxy), e-beam or ultra-deep UV lithography and precision etching, the mainstay of microelectronics and optoelectronics fabrication, then there are strict limits described below for which one-off fabrication is possible, but manufacture is not.

    FORBES: Are There Physical Limits to Nanotechnology?

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- 来自原声例句
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