干法刻蚀 ( dry etching ):等离子体、离子束打磨(刻蚀)和反应离子刻蚀(RIE)等离子体刻蚀:桶形刻蚀机(barrel etcher)、平面等离子刻蚀机、电子回旋加速器共振(ECR)、高密度反射电子、Helicon波、感应耦合等离子(ICP)、变压器耦合等离子体(TCP)等;
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barrel etcher
桶腐蚀装置
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