1、常压化学气相沉积 (Atmospheric Pressure CVD；APCVD) 2、低压化学气相沉积 (Low Pressure CVD；LPCVD) ..
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在集成电路制程中，经常使用的CVD技术有： (一)『大气压化学气相沈积』(atmospheric pressure CVD)系统：在近于大气压的状况下进行化学气相沈积的系统 (二) 『低压化学气相沈积』(low pressure CVD)系统：
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光反应式化学气相沉积法(PHCVD) 常压化学气相沉积法（APCVD） 所谓常压化学气相沉积法（APCVD，Atmospheric pressure CVD），顾名思义，就是在气压接 近常压下进行CVD 反应的一种沉积方式，此法的沉积速度极快，约为600-1...
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atmospheric pressure CVD system 大气压 ; 大气压法
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