原子层化学气相沉积(Atomic Layer Chemical Vapor Deposition)
...性,因此Ta 的氮化物,碳 化物作为Cu 的扩散阻挡层材料得到了广泛的研究.Hsyi—En Cheng 等[5]采用原子层化学气相沉积(ALCVD)的方法制备了 TiN 阻挡层.
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我们报告的光学特性的未退火的铪铝酸盐（会发生）薄膜通过原子层化学气相沉积法（ALCVD）与薄膜中的铝含量和关联。
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...，最初称为原子层外延(Atomic Layer Epitaxy，ALE)，也称为原子层化学气相沉积(Atomic Layer Chemical Vapor Deposition，ALCVD)。
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