【脉冲激光淀积】

脉冲激光淀积

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Pulse Laser Deposition

1543 0  引言利用脉冲激光淀积( Pulse Laser Deposition, PLD) 技术 [ 13] 制备类金刚石 ( DiamondLike Carbon, DLC...

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...com豆丁网 ganic chemical vapor deposition，MOCVD）法、分子柬外延（MBE）法以及脉冲激光淀积（Pulsedlaser deposition，PLD）法等先后用于制备BST铁电薄膜，不同方法各有优缺点。以下简要介绍几种比较常见的制备技术。

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短语

电子、通信与自动控制技术 | 物理学

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简要概述了脉冲激光蒸发淀积(PLED)和激光诱导化学气相淀积(LCVD)的基本原理、淀积系统和激光器。

The basic principles, deposition systems and laser sources of pulsed laser evaporation deposition (PLED) and laser-induced chemical vapor deposition (LCVD) are simply introduce.

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