等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced vapor deposition)
...境与工程》2013年02期 功能材料 等离子体化学气相沉积参量对Ar等离子体电子特性的影响 1引言等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是制备现代功能薄膜材料的重要工艺技术,已经广泛应用于制备大面积微电子器件,光电转换以及光电子显示器件等领域的功能薄膜。
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等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced vapor deposition)
plasma enhanced vapor deposition
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