研究低温等离子体条件下化学反应的化学分支学科。物质一般有固态、液态和气态三态，等离子体却被认为是物质的第四态。为了使气体变成等离子体，必须使其电离。
等离子体化学气相沉积 PCVD ; Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ; plasma cvd
等离子体化学合成 pcs
等离子体化学气相输运 PCVT
等离子体化学汽相淀积 plasma chemical vapor deposition
等离子体光谱化学 [等离子] [分化] plasma spectrochemistry
高气压非平衡等离子体化学具有极其广阔的应用前景。
Non equilibrium plasma chemistry at high pressure has wide application prospects.
以镍为催化剂，利用微波等离子体化学气相沉积法制备了弹簧状碳纤维。
Under the catalytic effect of nickel particles, spring-like carbon filaments were synthesized through microwave plasma chemical vapor deposition.
射频辉光放电硅烷等离子体化学汽相沉积是制备氢化非晶硅薄膜的主要工艺技术。
Plasma chemical vapor deposition in silane radio frequency glow discharge is a main fabrication technology of hydrogenated amorphous silicon (a-Si: h) films.
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