离子注入技术：把掺杂剂的离子引入固体中的一种材料改性方法。简单地说，离子注入的过程，就是在真空系统中，用经过加速的，要掺杂的原子的离子照射（注入）固体材料，从而在所选择的（即被注入的）区域形成一个具有特殊性质的表面层（注入层）。
之后又发明了等离子体浸没离子注入技术(简称PIII[26])、金属离子注入和沉积相结 合的处理工艺(简称PIII&D[27]),广泛应用在生物医用材料和精密零部件等领域。
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离子注入隔离技术 implant isolation technique
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用离子注入技术保证电路具有较好的一致世。
The ion implantation technology is used for a good uniformity of the circuit performance.
氦离子用等离子体浸没离子注入技术注入硅片中。
Helium ion was implanted by plasma immersion ion implantation technology.
本文评述了在金属材料领域中应用离子注入技术的现状；
The present situations of applying ion implantation technique in metallic materials are reviewed.
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