畴壁位移(domain wall displacement),在外磁场作用下,内部磁矩取向和磁场方向比较接近的磁畴的体积将增大,而磁矩取向和磁场方向夹角较大的磁畴体积将缩小。这一磁化过程相当于畴壁从未加磁场前的位置移到了一个新的位置,从而使材料的磁化强度有一定的增大量。这一过程称为畴壁位移。它是技术磁化过程的重要机理之一。
单晶材料消除了晶界对畴壁移动的影响,具有很好的低场下的位移输出能力,这为微位移致动器的研制奠定了很好的基础。
These excellent single crystals, possessing a large displacement output under low magnetic field, build a foundation for the fabrication of the high precision micro-displacement actuators.
这种氧化层使钢板产生应力场,阻碍磁畴壁的位移,因而使铁损增加。
The subsurface oxide layers generated stresses in the sheet and impeded domain wall motion, so that the iron loss was increased.
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