... 代谢产物 metabolites 电学性质 electrical properties 分解代谢副产物 catabolites ...
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Influences of Al doping concentration and annealing temperatures on the structural, optical and electrical properties were investigated.
基于这个研究构思,做了如下主要研究:1.详细研究了Al掺杂浓度和退火温度对ZnO薄膜结构、光学和电学性质的影响。
参考来源 - 溶胶凝胶法制备ZnO基薄膜及离子注入研究The results show that the growth temperature can efficiently improve the structural, optical and electric properties of ZnO thin films, and the two-dimension growth mode at 650℃was obtained.
结果表明,生长温度能够有效地改善ZnO 的结构、光学与电学性质,并且在生长温度为650℃下实现了ZnO 薄膜的二维生长。
参考来源 - 高质量氧化锌薄膜和低维结构的制备及研究. The sheet hole concentration increases about 109/cm2 order of magnitude and the Hall mobility increases too. Te doping changes
,面载流子浓度增大到109/cm2的数量级,迁移率亦增大到104cm2/v.s,掺杂Te元素改善了CdTe薄膜的电学性质,使其变为良好的p型半导体。
参考来源 - 近距离升华(CSS)法制备CdTe薄膜及其性能研究·2,447,543篇论文数据,部分数据来源于NoteExpress
它们皆具有特殊的光学和电学性质。
对区熔后的硅膜结构和电学性质进行了研究。
The structure and electrical properties of silicon film after ZMR are studied.
采用异质结超注原理分析了开关的电学性质;
The electricity character of the switch is analysed by theheterojunction ultra high injection principle.
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