InGaAs/InP异质结界面层的应变研究 arsine,TBAs)和叔丁基磷(tertiarybulphosp hine,TBP )为源材料,用有机金属气相外延(metalorganic vapor phase epitaxy,MOVPE)生长了与InP衬底晶格匹配的InGaAs/InP超晶格. 高精度X射线衍射的结果表明,在InG aA
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用有机金属气相外延 MOVPE ; metal organic vapor phase epitaxy
金属有机物气相外延 MOVPE
金属有机气相外延 MOVPE ; Metal organic vapor phase epitaxy
有机金属化学气相外延 MOCVE
材料金属有机气相外延 Metal organic vapor phase epitaxy ; MOVPE
金属有机化学气相外延 Metal-organic Chemical Vapor Deposition ; MOCVD
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