第八章 淀积 - docin.com豆丁网 一层金属之间 的电绝缘层称为第一层层间介质（ILD-1）， 这一层也被称为金属前绝缘层（PMD）。 层间介质（interlayer dielectric,ILD），应用 于器件不同的金属层之间。充当两层导电金属 或者相邻金属线条之间的隔离膜。 8.1.2 薄膜的
基于4个网页-相关网页
·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
本发明可以用于电学测量铜引线在CMP过 程后铜引线层间介质是否产生侵蚀现象。
The invention can be used in electricity for measuring whether the interlayer media of the copper leading wires are eroded after the CMP process of the copper leading wires.
应力梯度随通孔直径、层间介质材料介电常数和铜线余量长度的减小而下降，随线宽减小而上升。
Stress gradient decreased as the via diameter, the dielectric constant of ILD or the residual length decreasing, and increased as the line width increasing.
应力极大值随通孔直径和层间介质材料介电常数的减小而下降，随线宽和铜线余量长度的减小而上升。
Residual stress decreased as the via diameter or the dielectric constant of ILD decreasing, and increased as the line width or the residual length decreasing.
应用推荐