以往制作具曲线或斜线外形光学元件时，使用传统二元式光罩(Binary Mask)，为 了达到使元件表面轮廓更接近连续相位曲线，在相位阶数的选取，与光学微影制 程时所遇到的光罩对准问题，带来极高的难度与耗...
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二元式光罩
Binary mask
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