三氟化氮（nitrogen trifluoride）化学式NF₃，在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
随着使用量增加，三氟化氮的排放量也将升级。
The emissions will escalate as nitrogen trifluoride's use increases.
普莱瑟说我们现在应当密切关注大气中的三氟化氮含量。
Prather says we should now be following nitrogen trifluoride concentrations in the atmosphere closely.
一些公司选择了接受三氟化氮的替代品来解决这个问题。
Some companies are solving the problem by adopting alternatives to nitrogen trifluoride.
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