磁性薄膜材料 百科内容来自于: 百度百科

磁性薄膜材料magnetic thin film material厚度在1微米以下的强磁性(铁磁性和亚铁磁性)材料。简称磁膜材料。制备方法主要有真空蒸发法、电沉积法、溅射法等。

制备方法

其制备方法主要有:
①真空蒸发法。即在真空状态下将加热蒸发的磁性材料沉积在基片上。
②电沉积法。即将磁性材料和基片做成阳极和阴极,在电解液中通过电化学作用,磁性阳极材料沉积到阴极基片上。
③溅射法。即将磁性阳极材料和基片分别作为阴极和阳极,在抽真空后又充入惰性气体电离成离子并高速轰击阴极,使阴极表面溅射出的原子附着于阳极基片上。此外,还有外延生长法、化学镀膜法等。
各种磁性材料几乎都可制成成分和厚度可以控制的磁膜材料。一般按材料性质分为金属和非金属磁膜材料;按材料组织状态分为非晶、多层调制和微晶磁膜材料。磁膜材料广泛用于制造计算机存储,光通信中的磁光调制器、光隔离器和光环行器等;也用作磁记录薄膜介质和薄膜磁头,以及磁光记录盘等。

材质结构

磁性薄膜材料,英文magnetic thin film material,厚度在1微米以下的强磁性(铁磁性和亚铁磁性)材料。简称磁膜材料。使用时需附于弱磁性材料的基片上。磁膜材料的磁特性取决于其制备方法和工艺条件。
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