- 1. RF-PECVD: 沉积
采用射频等离子体化学增强型气相沉积(rF-PECVD)法沉积了掺氮氟化非晶碳膜.研究了不同射频功率下薄膜样品表面形貌及I-U特性,比较了试样I-U曲线的对称性及零点漂移;分析了直接沉积...
dict.youdao.com - 2. RF-PECVD: 气相沉积法
采用等离子增强型化学气相沉积法(RF-PECVD),源气体为NH3/SiH4/N2的混合气体,在330℃的温度下沉积a-SiNx∶H薄膜。
dict.youdao.com - 3. RF-PECVD: 积法
...备氮化硅薄膜主要有等离子增强型化学气相淀积法(PECVD)、低压化学气相淀积法(LPCVD)、射频等离子增强型化学气相淀积法(RF-PECVD)、光化学气相淀积法(光CVD)等等。等离子增强型化学气相淀积(PECVD)是目前较为理想和重要的氮化硅薄膜制备方法。
dict.youdao.com - 4. rf PECVD: 射频PECVD
dict.youdao.com - 5. HF-RF-PECVD: 相沉积
dict.youdao.com - 6. DC-RF-PECVD: 直流射频等离子增强化学气相沉积
dict.youdao.com - 7. high-pressure RF-PECVD: 高压RF
dict.youdao.com
有道词典