chemical_mechanical_polishing_网络释义

1. Chemical Mechanical Polishing: 化学机械抛光
...：在电子制造行业,随着产品性能的不断提高,对表面质量的要求越来越高。抛光是表面平整化加工的重要手段。与现有的抛光技术相比,化学机械抛光(Chemical mechanical polishing,简称CMP)是目前广泛采用的并且是几乎唯一的全局平面化技术。
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2. Chemical Mechanical Polishing: 化学机械研磨
目前，化学机械研磨(Chemical Mechanical Polishing, CMP)是达成全局平坦化的最佳方法，尤其是在半导体制作工艺进入亚微米领域后，化学机械研磨已成为一项不可或缺的制作工艺技术。
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3. Chemical Mechanical Polishing: 技术
化学机械抛光技术（Chemical Mechanical Polishing,CMP）是目前最好的、也是唯一全局平面化技术，是超大规模集成电路成功的最为关键的技术。
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4. Chemical Mechanical Polishing: 研磨
2 中文摘要化学机械研磨 ( Chemical Mechanical Polishing ) 是目化学研磨 search engine, 化学研磨 Search, Free 化学研磨 Ebook, PDF, TXT, DOC, TXT, PPT downloads..
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5. chemical mechanical polishing CMP: 化学机械抛光

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6. chemical-mechanical polishing machine: 化学机械抛光机

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7. chemical mechanical polishing cmp technology: 化学机械抛光技术

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8. chemical-mechanical polishing cmp: 化学机械抛光

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9. CMP chemical mechanical polishing: 机械化学抛光

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10. copper chemical-mechanical polishing: 铜化学机械抛光

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