P-type semiconductor zinc oxide films, process for preparation thereof, and pulsed laser deposition method using transparent substrates.
型半导体氧化锌薄膜，其制备方法，和使用透明基片的脉冲激光沉积方法。
P-type semiconductor zinc oxide films, process for preparation thereof, and pulsed laser deposition method using transparent substrates.
型半导体氧化锌薄膜，其制备方法，和使用透明基片的脉冲激光沉积方法。
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