本文描述使用以阻抗测量仪为中心的正偏电容测量系统提取金属-半导体接触界面态参数的方法。
This paper presents a forward-bias capacitance measurement system based on HP 4274AL-C-R meter for extracting the parameters of interface states of metal-semiconductor contacts.
本文描述使用以阻抗测量仪为中心的正偏电容测量系统提取金属-半导体接触界面态参数的方法。
This paper presents a forward-bias capacitance measurement system based on HP 4274AL-C-R meter for extracting the parameters of interface states of metal-semiconductor contacts.
应用推荐