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  • The concentration and deposition rate of the films are controllable with the optimization parameters on the RFMS-4 sputtering apparatus.

    用RFMS-4射频磁控溅射仪制备纳米多层膜技术稳定可靠，在优化工艺条件下能保证薄膜成分和溅射速率的稳定性。

    youdao

  • The concentration and deposition rate of the films are controllable with the optimization parameters on the RFMS-4 sputtering apparatus.

    用RFMS-4射频磁控溅射仪制备纳米多层膜技术稳定可靠，在优化工艺条件下能保证薄膜成分和溅射速率的稳定性。

    youdao

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- 来自原声例句
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