The controlling technology trend for MOCVD system is analyzed.
分析了MOCVD设备控制技术的发展趋势。
Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) is a key technology in growing thin-films.
金属有机化学气相沉积(MOCVD)是一门制备薄膜材料的关键技术。
MOCVD stands for Metalorganic Chemical Vapor Deposition, is one technology used to grow wafers from underlay with the MOCVD equipment.
MOCVD是金属有机化学气相沉积技术的简称，即通过MOCVD设备，在衬底上生长材料晶体的一种方法。
MOCVD stands for Metalorganic Chemical Vapor Deposition, is one technology used to grow wafers from underlay with the MOCVD equipment.
MOCVD是金属有机化学气相沉积技术的简称，即通过MOCVD设备，在衬底上生长材料晶体的一种方法。
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