• A method is described for fabricating and antifuse structure (100) integrated with a semiconductor device such as a FINFET or planar CMOS devise.

    本发明提供了FINFET平面CMOS器件的半导体器件集成反熔断器结构(100)及其制造方法

    youdao

  • A semiconductor device and a method for fabricating the same are disclosed.

    发明披露了一种半导体器件及其制造方法

    youdao

  • A semiconductor device and a method for fabricating the same are disclosed.

    发明披露了一种半导体器件及其制造方法

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- 来自原声例句
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